把设计掩膜模图形转移到晶圆上需要经过一整套复杂的涂胶、曝光、显影、刻蚀等工艺过程，这一过程大体可以分为以下11个步骤，如下图1 所示： 1. 衬底处理 当使用新的洁净的衬底（晶圆）时，需要在热板上1...